[VIP第1年] 指数:3
光刻机的知识点：ASML产能受限的原因？主要是人力受限：光刻机的研发和生产非常消耗人力，尤其是EUV刚刚研发出来，对人力的消耗更大，目前都是调用的DUV的人员。个性化定制并不会太影响产能：公司会提供各种options供客户选择，在签订订单的时候就已经谈好客户的设备里面需要加怎样的option。并不是所有的option都非常复杂，上海小型光刻机价格，只是在原有工艺的基础上稍作修改，这不是影响产能释放的决定性因素。2、其他厂商在EUV方面有无进展突破，他们的设备能达到多少制程？尼康和佳能一开始有先发优势，现在基本上只能达到42纳米，上海小型光刻机价格，上海小型光刻机价格，尼康在日本本土能达到28纳米。两三个月前刚刚有一台中低端的光刻机在客户公司进场，但技术上来说只能做到8寸厂的工艺，并且在工艺的重复性以及光源上还相差甚远，暂时无法达标。光刻机的曝光：增加了棱镜系统的制作难度。上海小型光刻机价格
光刻机的知识点：1、EUV和DUV的区别？DUV是深紫外线（DeepUltravioletLithography），EUV是极深紫外线（ExtremeUltravioletLithography）。从制程范围来看，DUV基本上只能做到25nm，Intel凭借双工作台的模式做到了10nm，但是却无法达到10nm以下。只有EUV能满足10nm以下的晶圆制造，并且还可以向5nm、3nm继续延伸。EUV的价格是1-3亿美金/台，DUV的价格为2000万-5000万美金/台不等。2、目前EUV技术是否完全成熟？EUV从2012年开始研究，到现在已基本成熟。2017年在光源上遇到了困难，设备需要又快又精确地打进金属粒子，并且粒子要均匀地溅射出去，速度达到每秒6000下是非常困难的，普通的DUV光源无法实现。目前这个技术已经完全攻克了。上海自动光刻机销售光刻机：按波长可分为紫外、深紫外和极紫外光刻。
投影式曝光分类：扫描投影曝光（ScanningProjectPrinting）。70年代末～80年代初，〉1μm工艺；掩膜板1：1，全尺寸；步进重复投影曝光（Stepping-repeatingProjectPrinting或称作Stepper）。80年代末～90年代，0.35μm（Iline）～0.25μm（DUV）。掩膜板缩小比例（4：1），曝光区域（ExposureField）22×22mm（一次曝光所能覆盖的区域）。增加了棱镜系统的制作难度。扫描步进投影曝光（Scanning-SteppingProjectPrinting）。90年代末～至今，用于≤0.18μm工艺。采用6英寸的掩膜板按照4：1的比例曝光，曝光区域（ExposureField）26×33mm。优点：增大了每次曝光的视场；提供硅片表面不平整的补偿；提高整个硅片的尺寸均匀性。但是，同时因为需要反向运动，增加了机械系统的精度要求。
光刻机的知识点：目前12寸和8寸厂的热度如何，未来拉动12寸晶圆和8寸晶圆的主要驱动力？目前中国在8寸设备上取得了一些进步，正在向12寸发展，但这条路还很长。发展的脚步受到区块链、AI、无人驾驶、消费电子等需求的拉动。比如说在手机芯片中加入AI的功能，芯片中布的线越多，能够实现的功能就越强大，人机互交的体验度就更好。这些都是下游需求拉动对晶圆的技术要求。8寸晶圆和12寸晶圆的区别：8寸晶圆一般是65nm级别的技术，主要应用于较为低端的芯片装置，比如物联网、汽车电子、部分显卡等。对显卡消耗较大的区块链也一定程度上拉动了对8寸晶圆的需求。12寸晶圆一般用于较高的逻辑芯片（CPU\GPU等）和存储芯片（DRAM\NAND等），终端下游为个人电脑、智能手机等。光刻机的技术原理：光刻胶。
光刻工艺要经历硅片外貌洗濯烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀、等工序。光刻意思是用光来制作一个图形;在硅片外貌匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的进程将器件或电路布局临时“复制”到硅片上的进程。光刻机根据操作的轻便性分为三种，手动、半自动、全自动。1.手动：指的是对准的调治要领，是议决手调旋钮变化它的X轴，Y轴和thita角度来完成对准，对准精度可想而知不高了。2.半自动：指的是对准可以议决电动轴根据CCD的举行定位调谐。3.自动：指的是从基板的上载下载，曝光时长和循环都是议决步调控制。光刻机的曝光：掩膜板1：1，全尺寸；步进重复投影曝光。上海小型光刻机报价
光刻机的曝光：90年代末～至今，用于≤0.18μm工艺。上海小型光刻机价格
光刻机的工作原理：1、清洗玻璃并烘干，首先准备一块玻璃，玻璃的大小可以根据需要裁减，然后将玻璃清洗干净烘干，备用。2、在玻璃上涂覆光刻胶，光刻胶有正性和负性之分。3、干燥，采用固化干燥机让玻璃挥发液体成分，干燥的目的是为了玻璃进一步加工的需要。4、曝光，曝光的方式有很多种，比如激光直写、通过掩模板同时曝光等都可以。5、去胶，去胶的方法也很多，比如放在刻蚀剂中，用正性胶的话，被光照到的地方就会被溶解，没有光照到的地方光刻胶保留下来，到这里就已经在光刻胶上刻蚀出了所需图形。6、清洗，去胶结束后，对玻璃进行清洗。7、转移，转移的方法也有很多，可以采取离子束轰击，光刻胶和玻璃同时被轰击等等，光刻胶被轰击完后，暴露出来的玻璃也被轰击，就把光刻胶上的图形转移到玻璃上。这样就完成了。上海小型光刻机价格
上海百雅信息科技发展有限公司是一家许可项目:各类工程建设活动。(依法须经批准的项目，经相 关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批 准文件或许可证件为准) 一般项目:计算机、网络、船舶领域内的技术开发、技术转 让、技术服务、技术咨询，工业控制计算机及系统销售，日用 百货、建筑材料、服装、五金交电、鞋帽的销售，货物进出 口，技术进出口，工业自动控制系统装置销售，机械设备研 发，软件开发。(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法 自主开展经营活动) 的公司，致力于发展为创新务实、诚实可信的企业。上海百雅科技作为许可项目:各类工程建设活动。(依法须经批准的项目，经相 关部门批准后方可开展经营活动，具体经营项目以相关部门批 准文件或许可证件为准) 一般项目:计算机、网络、船舶领域内的技术开发、技术转 让、技术服务、技术咨询，工业控制计算机及系统销售，日用 百货、建筑材料、服装、五金交电、鞋帽的销售，货物进出 口，技术进出口，工业自动控制系统装置销售，机械设备研 发，软件开发。(除依法须经批准的项目外，凭营业执照依法 自主开展经营活动) 的企业之一，为客户提供良好的PLC，伺服驱动器，伺服马达，变频器。上海百雅科技致力于把技术上的创新展现成对用户产品上的贴心，为用户带来良好体验。上海百雅科技始终关注自身，在风云变化的时代，对自身的建设毫不懈怠，高度的专注与执着使上海百雅科技在行业的从容而自信。
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